中国科学家基于单原子修饰纳米材料，利用可见光催化降解技术，有效减轻了磺酰脲类除草剂对后茬敏感作物的药害影响。相关研究成果发表在《化学工程杂志（ChemicalEngineer-ingJournal）》上。
　　磺酰脲类除草剂是目前全球使用量最大的除草剂种类之一，被广泛应用于阔叶杂草及禾本科杂草防治。近年来研究发现，磺酰脲类除草剂对烟草、玉米、大豆等作物产生的后茬药害问题严重，但目前仍缺乏高效降解技术。
　　该研究基于可见光催化技术，开展了磺酰脲类除草剂的降解规律、降解机理及毒性评价等系列试验。结果表明，利用氮化碳纳米材料可同步实现多种磺酰脲类除草剂的可见光催化降解，通过单原子修饰可显著提高纳米材料的性能，目标除草剂降解速率提高四倍，结合理论计算对机理进行了深入阐释，进一步证实该技术可有效减轻磺酰脲类除草剂对后茬敏感作物的药害作用。

（宋雅娟）